Этот заказ уже выполнен на сервисе Автор24
На нашем сайте вы можете заказать учебную работу напрямую у любого из 45000 авторов, не переплачивая агентствам и другим посредникам. Ниже приведен пример уже выполненной работы нашими авторами!
Узнать цену на свою работу

Микрокатоды. Изготовление микрокатодов с использованием литографии

Номер заказа
137398
Создан
18 сентября 2014
Выполнен
2 января 1970
Стоимость работы
400
Не получается сделать. Надо срочно сделать реферат по электронике, электротехнике, радиотехнике. Есть буквально 1 день. Тема работы «Микрокатоды. Изготовление микрокатодов с использованием литографии ».
Всего было
18 предложений
Заказчик выбрал автора
Этот заказ уже выполнен на сервисе Автор24
На нашем сайте вы можете заказать учебную работу напрямую у любого из 45000 авторов, не переплачивая агентствам и другим посредникам. Ниже приведен пример уже выполненной работы нашими авторами!
Узнать цену на свою работу
Или вы можете купить эту работу...
Страниц: 15
Оригинальность: Неизвестно
400
Не подошла
данная работа?
Вы можете заказать учебную работу
на любую интересующую вас тему
Заказать новую работу

ЗАКЛЮЧЕНИЕ
В заключение рассмотрим вопрос о том, как долго будет продолжаться наблюдающийся в течение последних 35-40 лет прогресс в микроэлектронике, связанный с быстрым ростом степени интеграции ИС и уменьшением размеров транзисторов. Или говоря другими словами, как долго ещё будет выполняться закон Мура.
Согласно мнению экспертов, закон Мура может прекратить своё действие в связи с несколькими основными, видными уже сегодня, проблемами. Первая проблема классически формулируется следующим образом:рано или поздноусложнение микроэлектронной продукции приведёт к исчерпанию возможностей существующих технологий и принципиальному изменению производственного процесса, а также механизмов функционирования самой электроники.
В связи с этим особый интерес представляет ответ на вопрос, как долго буд Показать все
ВВЕДЕНИЕ
Миниатюризация элементов интегральных схем есть способ увеличения их производительности и эффективности. Поэтому существует потребность как в развитии наноструктурирования, так и создания специализированных структур на чипах с элементами, имеющими нанометровые размеры в таких областях как: оптоэлектроника, рентгеновская оптика, исследования в области физики низких температур и квантово-размерных эффектов, новых материалов, таких как двумерный графен и т.д.[1]
Структурирование с помощью электронной литографии является самым удобным методом создания объектов ввиду своей гибкости и оперативности. В связи с этим задача развития методик получения суб-100нм разрешения в электронной литографии является актуальной.
Электронная литография основана на взаимодействии электронного пучка с рез Показать все
Содержание
Введение 3
1 Понятие интегральной микросхемы и ее элементов 5
1.1 Анализ состояния микроэлектроники 5
1.2 Закон Мура 6
2 Получение интегральных микросхем и микрокатодов методами электронной литографии 7
2.1 Основные понятия и определения 7
2.2 Электронная литография 9
2.2.1 Сущность метода электронной литографии 9
2.2.2 Преимущества метода электронной литографии 12
Заключение 13
Список источников 15

СПИСОК ИСТОЧНИКОВ
1. Моделирование процессов внедрения и перераспределения примесей при ионной имплантации / В. В. Асессоров и др. - Воронеж: Воронежский гос. ун-т, 2004 г. - 202 с. - ISBN 5-9273-0506-7.
2. А.В. Заблоцкий, А.С. Батурин, Е.А. Тишин, А.А. Чуприк. "Растровый электронный микроскоп: Лабораторная работа". МФТИ, 2009. – 52 с.
3. «Практическая растровая электронная микроскопия», под ред. Гоулдстейна Дж. и Яковца X. М.: Мир, 1978.
4. http://az-design.ru/index.shtml?Support&Archiv&Elc1979/.
5. http://www.ufn.ru.
6. http://journal.issep.rssi.ru/t_cat.phpid=5.
7. http://www.edu.ru/.
8. http://www.tokyo-boeki.ru.
9. http://www.nanometer.ru/2010/05/30/nanolithography_214087.html.

Актиночувствительным называется слой, который изменяет свои свойства (растворимость, химическую стойкость) под действием актиничного излучения (например, ультрафиолетового света или потока электронов).Литографические процессы позволяют:получать на поверхности окисленных полупроводниковых подложек свободные от слоя оксида области, задающие конфигурацию полупроводниковых приборов и моментов ИМС, в которые проводится локальная диффузия примесей для создания p-n-переходов;формировать межсоединения элементов ИМС;создавать технологические маски из резистов, обеспечивающие избирательное маскирование при ионном легировании.Широкое применение литографии обусловлено следующими достоинствами:высокая воспроизводимость результатов и гибкость технологии, что дает возможность с легкостью переходить от од Показать все
Автор24 - это фриланс-биржа. Все работы, представленные на сайте, загружены нашими пользователями, которые согласились с правилами размещения работ на ресурсе и обладают всеми необходимыми авторскими правами на данные работы. Скачивая работу вы соглашаетесь с тем что она не будет выдана за свою, а будет использована исключительно как пример или первоисточник с обязательной ссылкой на авторство работы. Если вы правообладатель и считаете что данная работа здесь размещена без вашего разрешения - пожалуйста, заполните форму и мы обязательно удалим ее с сайта. Заполнить форму
Оценим бесплатно
за 10 минут
Эта работа вам не подошла?
У наших авторов вы можете заказать любую учебную работу от 200 руб.
Оформите заказ и авторы начнут откликаться уже через 10 минут!
Заказать реферат