Создан заказ №3665327
22 февраля 2019
Актуальность темы исследования состоит в том, что электронная литография, в которой вместо света резист экспонируется электронным пучком, имеет очень малую производительность и поэтому не подходит для производства сверхбольших интегральных схем.
Как заказчик описал требования к работе:
Срочно нужно написать реферат по физике ко вторнику. Список требований в файле.
Фрагмент выполненной работы:
ВВЕДЕНИЕ
В технологии изготовления интегральных микросхем очень важное место принадлежит маскам, обеспечивающим локальный характер напыления, легирования, травления, а в некоторых случаях и эпитаксии. Любая маска есть совокупность отверстий (окон) в слое сплошного материала. Формированием масок в планарной технологии занимается литография.
Литография (от греческих «lithos» - камень и «grapho» - пишу, рисую) - одна из наиболее широко распространенных технологий для получения наноструктур. (работа была выполнена специалистами author24.ru) Первоначально литографией называли способ печати, при котором оттиски получаются переносом краски под давлением с плоской (нерельефной) печатной формы непосредственно на гладкую поверхность. Литография в микро- и наноэлектронике - это формирование в специальном чувствительном слое (резисте), нанесенном на поверхность подложки, рельефного рисунка, повторяющего топологию микросхемы, с последующим переносом этого рисунка на подложки. Процесс литографии осуществляется с использованием специальных материалов - резистов, чувствительных к внешнему облучению и способных при этом переходить в нерастворимое устойчивое к действию травителей состояние (негативные резисты) или, наоборот, разрушаться (позитивные резисты).
Актуальность темы исследования состоит в том, что электронная литография, в которой вместо света резист экспонируется электронным пучком, имеет очень малую производительность и поэтому не подходит для производства сверхбольших интегральных схем. Чтобы разрешить эти проблемы, разрабатываются методы безмасочной литографии, которая является литографией высокого разрешения.
Цель работы – всесторонне охарактеризовать литографию высокого разрешения – методы безмасочной литографии.
Цель работы достигается благодаря выполнению следующих задач:
дать общую характеристику методов безмасочной литографии;
описать воздействие потоком заряженных частиц (электронов или ионов) как метод безмасочной литографии;
проанализировать достоинства и недостатки механического воздействия (тип атомно-силового микроскопа (АСМ));
оценить пространственно ограниченное химическое воздействие (окисление подложек с помощью типа сканирующего туннельного микроскопа (СТМ))Посмотреть предложения по расчету стоимости
Заказчик
заплатил
заплатил
200 ₽
Заказчик не использовал рассрочку
Гарантия сервиса
Автор24
Автор24
20 дней
Заказчик воспользовался гарантией, чтобы исполнитель повысил уникальность работы
23 февраля 2019
Заказ завершен, заказчик получил финальный файл с работой
5
Актуальность темы исследования состоит в том, что электронная литография, в которой вместо света резист экспонируется электронным пучком, имеет очень малую производительность и поэтому не подходит для производства сверхбольших интегральных схем..docx
2021-03-16 23:06
Последний отзыв студента о бирже Автор24
Общая оценка
4.3
Положительно
Автор очень хороший, свою работу выполняет качественно и вовремя. Мне понравилось), советую заказывать ТОЛЬКО у неё)
Хочешь такую же работу?
300 ₽
